![[특징주] 그린리소스, 삼성전자 파운드리 GAA 기술 낙점...국내 유일 코팅기술 보유↑](https://cgeimage.commutil.kr/phpwas/restmb_allidxmake.php?pp=002&idx=3&simg=2024051410284008216abe7dc98961452146165.jpg&nmt=29)
14일 한 매체에 따르면 첨단 공정인 7나노 이하 시장에서는 TSMC가 70% 이상을 점유하며 독주하고 있는 가운데 삼성전자는 다시 한번 GAA(Gate-All-Around) 카드를 내밀 계획이라고 보도했다.
삼성전자가 2나노 공정의 핵심 기술로 내세운 GAA는 기존 FinFET 대비 트랜지스터 성능을 대폭 개선한 구조다. FinFET은 핀(Fin) 모양의 채널에 게이트를 세 면으로 감싸는 반면, GAA는 나노 와이어 형태의 채널을 게이트가 둘러싸는 형태로 채널을 360도 감싸게 된다. 이를 통해 게이트의 채널 제어력을 높여 누설전류를 최소화하고 트랜지스터 성능을 개선할 수 있다.
GAA 기술은 이미 3나노 공정에서 선보인 바 있다. 삼성전자는 지난 2022년 7월 세계 최초로 GAA 기술을 적용한 3나노 공정 제품 출하식을 열었지만 신기술 도입에 따른 수율을 확보하지 못해 애플 등 주요 고객사를 TSMC에 빼앗겼다.
특히 3nm, 5nm 공정의 반도체 식각 장비 부품 초고밀도 코팅 기술을 보유한 국내 유일의 업체로 알려져 있다.
글로벌에픽 증권팀 박진현 기자 epic@globalepic.co.kr
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