HPSP, 세계 유일이자 독점 반도체 핵심 장비 개발...450℃ 이하·100% 수소 농도 구현 가능 유일

[글로벌에픽 증권팀 박진현 CP] 반도체 어닐링 장비 분야에서 글로벌 독보적 기술력을 보유한 HPSP가 선보인 ‘GENI-SYS’는 세계에서 유일하게 고압 환경에서 100% 수소 농도를 유지하며 저온 어닐링을 구현할 수 있는 장비로, 지난 15년간 단 한 차례도 동일 수준의 경쟁 장비가 등장하지 않은 독점 기술 플랫폼이다.

10일 업계에 따르면 GENI-SYS는 기존의 저압·고온 방식의 어닐링 장비와는 완전히 다른 기술 철학을 기반으로 개발되었으며, 450℃ 이하의 공정 온도에서도 100% 순도의 수소 농도 유지를 가능케 하는 고압 어닐링 기술은 현재까지 오직 HPSP만이 구현할 수 있는 세계 유일의 공정 기술로 평가받고 있다.

해당 장비는 중수소, 수소, 질소, 산소 등 다양한 고압 가스를 공정에 사용하는 고난이도 장비로, 1~25기압 범위의 공정 압력 운용, 고압 용기 설계 및 인증, 그리고 이중·삼중 인터락(Inter-lock)을 통한 안전 설계까지, 성능과 안전성 모두에서 업계를 압도하는 수준을 자랑한다. 이러한 독보적인 기술력은 이미 국내외 유수의 반도체 제조업체로부터 검증을 마쳤으며, 세계 어느 장비도 대체할 수 없는 유일무이한 존재로 자리 잡고 있다.

HPSP는 GENI-SYS 플랫폼을 기반으로, 기존 시스템 반도체 공정뿐만 아니라 NAND Flash 및 DRAM 등 메모리 공정으로의 적용을 본격 확대하고 있다. 주요 메모리 소자 기업들과의 공동개발 및 평가 계약을 체결, GENI-SYS HT 및 O2 제품군의 적용 가능성을 확보했으며, 글로벌 메모리 기업들과의 사전 평가 기판 실험도 성공적으로 완료했다.
현재 HPSP는 국내 고객사 양산 라인에 안정적으로 장비를 적용하고 있으며, 이를 기반으로 다국적 메모리 고객사들의 생산 공정에도 본격 진입을 추진 중이다. 각국에 위치한 글로벌 생산거점에서의 확대 적용을 위한 협의도 활발히 진행되고 있다.

[글로벌에픽 증권팀 박진현 CP / epic@globalepic.co.kr]